特征■ 流量范围广，从 15 到 300SLPM■ 与大多数高纯度半导体工艺气体的良好兼容性。■ 3 纳米颗粒过滤能力以最小的压降保持高流动效率。■ 5Ra 电抛光表面可防止内部污染。■ 去离子水清洗后用热氮气烘烤，符合半导体工艺标准。■ 100 级制造、清洁和包装环境。■ 100% 氦气泄漏测试。